Treatment of Dust Particles in an RF Plasma Monitored by Mie Scattering Rotating Compensator Ellipsometry
Swinkels, G.H.P.M., Stoffels, E., Stoffels, W.W., Simons, N., Kroesen, G.M., de Hoog, F.J.
Pure & Appl. Chem. 1998, 70, 1151-1156
Treatment of Dust Particles in an RF Plasma Monitored by Mie Scattering Rotating Compensator Ellipsometry
Swinkels, G.H.P.M., Stoffels, E., Stoffels, W.W., Simons, N., Kroesen, G.M., de Hoog, F.J.
Pure & Appl. Chem. 1998, 70, 1151-1156
Durch die weitere Nutzung der Seite stimmen Sie der Verwendung von Cookies zu. Weitere Informationen
Die Cookie-Einstellungen auf dieser Website sind auf "Cookies zulassen" eingestellt, um das beste Surferlebnis zu ermöglichen. Wenn du diese Website ohne Änderung der Cookie-Einstellungen verwendest oder auf "Akzeptieren" klickst, erklärst du sich damit einverstanden.