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+++ NEW ++ A New Generation of Silica Particles +++

Treatment of Dust Particles in an RF Plasma Monitored by Mie Scattering Rotating Compensator Ellipsometry

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Swinkels, G.H.P.M., Stoffels, E., Stoffels, W.W., Simons, N., Kroesen, G.M., de Hoog, F.J.
Pure & Appl. Chem. 1998, 70, 1151-1156

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